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赫爾納供應(yīng)德國SENTECH光譜橢偏儀

赫爾納供應(yīng)德國SENTECH光譜橢偏儀

赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢供應(yīng),德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品，為您提供一對一好的解決方案，貨期穩(wěn)定。

公司簡介：

SENTECH 是德國的“聚合物表面高柔性光學(xué)精密層 (FlexCoPas) 研究"項(xiàng)目的一部分。在該項(xiàng)目中，我們已經(jīng)能夠開發(fā)出一種設(shè)備，該設(shè)備可以執(zhí)行箔片和透鏡上的透射測量。

SENTECH光譜橢偏儀主要產(chǎn)品：

SENTECH光譜反射計(jì)

SENTECH光譜橢偏儀

SENTECH光譜橢偏儀產(chǎn)品型號：

SENresearch 4.0

SENpro

SENTECH光譜橢偏儀產(chǎn)品特點(diǎn)：

光譜橢偏儀測量單層和多層堆疊的薄膜厚度和折射率?？梢苑治鰤K體材料、各向同性和各向異性材料、表面和界面粗糙度以及梯度的相關(guān)屬性。新SENresearch 4.0為 190 nm（深紫外）至 3,500 nm（近紅外）寬光譜范圍內(nèi)的光譜橢偏測量而設(shè)計(jì)。

SENTECH光譜橢偏儀產(chǎn)品應(yīng)用：

SENTECH光譜橢偏儀每個(gè)SENresearch 4.0都是客戶定的光譜橢圓偏振解決方案SENresearch 4.0可配置為完整的 Mueller 矩陣、各向異性、SENTECH光譜橢偏儀廣義橢圓偏振、散射測量等，SENpro橢偏儀是光譜橢偏儀應(yīng)用的智能解決方案。它具有一個(gè)入射角為 5° 步長的測角儀。簡單的操作、快速的測量和直觀的數(shù)據(jù)分析結(jié)合在經(jīng)濟(jì)高效的設(shè)計(jì)中，SENTECH光譜橢偏儀用于測量單層薄膜和多層膜的厚度和光學(xué)常數(shù)。FTIR 橢偏儀SENDIRA具有振動(dòng)光譜功能。測量紅外中分子振動(dòng)模式的吸收帶，SENTECH光譜橢偏儀分析長分子鏈的取向和薄膜的組成。紅外光譜橢圓光度法適用于測量導(dǎo)電薄膜的載流子濃度。SENDURO 的自動(dòng)光譜橢偏儀包括基于配方的快速數(shù)據(jù)分析，可在幾秒鐘內(nèi)進(jìn)行。SENTECH光譜橢偏儀橢圓偏振儀的設(shè)計(jì)易于操作：放置樣品、自動(dòng)樣品對準(zhǔn)、自動(dòng)測量和分析、結(jié)果。在自動(dòng)模式下使用光譜橢偏儀適合質(zhì)量控制和研發(fā)中的常規(guī)應(yīng)用。SENDURO  MEMS使用光譜反射計(jì)和橢圓光度計(jì)薄膜堆棧測量。SENTECH光譜橢偏儀晶圓從標(biāo)準(zhǔn)盒中裝載，配方進(jìn)行質(zhì)量控制測量。在傳感器和 MEMS 生產(chǎn)中，通常會加工雙面晶圓，并且進(jìn)行背面保護(hù)。光譜橢偏儀軟件SpectraRay/4的設(shè)計(jì)注重直觀的工作流程。SENTECH光譜橢偏儀因此，SpectraRay/4包括具有兩步操作（開始測量、結(jié)果）的配方模式和用于逐步數(shù)據(jù)分析的交互模式。SpectraRay/4的綜合包支持廣義橢圓測量、Mueller 矩陣形式、散射測量（3D 輪廓儀）、各向異性和模擬。激光橢偏儀SE 400adv可測量透明薄膜的厚度和折射率，SENTECH光譜橢偏儀具有測量速度快、厚度精度達(dá)到亞埃級以及折射率測定精度達(dá)到的特點(diǎn)。CER 橢偏儀SE 500adv將激光橢偏儀和反射儀結(jié)合在一個(gè)系統(tǒng)中。這種組合可實(shí)現(xiàn)零度反射測量，SENTECH光譜橢偏儀以實(shí)現(xiàn)快速薄膜分析，并通過激光橢偏儀的亞埃級精度對透明薄膜進(jìn)行明確的厚度測定，將可測量厚度范圍擴(kuò)SENTECH光譜橢偏儀展至 25 µm。光譜反射計(jì)RM 1000/2000 的光譜范圍為 200 nm – 930 nm 的 UV 至 NIR。光學(xué)布局對光通量進(jìn)行了優(yōu)化，使在粗糙或彎曲的表面上也能測量 n 和 k。SENTECH光譜橢偏儀高度和傾斜調(diào)整可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的單光束反射率測量，具有快速的厚度測量功能。測量時(shí)間不到 100 毫秒，精度低于 0.3 nm，膜厚范圍為 50 nm – 25 µm。SENTECH光譜橢偏儀包含多種預(yù)定義配方，可進(jìn)行光譜反射測量操作。