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赫爾納供應美國saes凈化器LS2

赫爾納供應美國saes凈化器LS2

赫爾納供應美國總部直接采購saes過濾器，原裝產(chǎn)品，貨期好，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：赫爾納大連公司在中國設有10個辦事處，可為您提供好的維修服務。

公司簡介：

作為一家制造商合作推動技術持續(xù)進步的公司，我們擁有基礎設施，包括戰(zhàn)略性布局的制造基地、研發(fā)設施和客戶支持。我們進行基礎設施投資，使我們更接近有地區(qū)的客戶。我們技術的團隊成員、設施和資源就在您需要的地方，可以幫助您解決技術。

saes凈化器產(chǎn)品名稱：

saes凈化器

Saes過濾器

saes凈化器產(chǎn)品型號：

LS2

SP/SN

HT

HTX

saes凈化器產(chǎn)品特點：

材料： 膜   聚四氟乙烯

 支架、外殼   肺動脈高壓

凈化能力：   金屬去除

凈化能力： 4.30 毫克當量 1.18兆當量 0.48毫克當量

保留評級：15納米

saes凈化器產(chǎn)品應用：

saes凈化器SP/SN 溶劑凈化器有效去除各種純、極性和非極性溶劑中的溶解和膠體金屬污染物，包括難以去除的酮類，如環(huán)己酮。結(jié)構材料與多數(shù)有機光化學溶劑具有的化學兼容性,兩種不同的凈化介質(zhì)類型可在極性和非極性溶劑中去除金屬,與其他凈化器技術相比，UPE 凈化介質(zhì)可提供清潔度.

saes凈化器高效溶劑凈化器/過濾器為 45 nm 以下技術節(jié)點中的關鍵柵極清潔 (FEOL) 應用提供的金屬和顆粒去除效果.

saes凈化器HT 和 HTX 凈化器一體式凈化器/過濾設備，可在關鍵的去離子水清潔應用中提供對金屬污染的保護。高效凈化器，為高達 80°C 的去離子水應用而設計，saes凈化器有技術節(jié)點均具有的流速性能和污染物去除能力，促進高溫下快速啟動和高產(chǎn)量，高離子交換能力已證明具有的粒子性能，并且具有低的金屬萃取物和更少的晶圓上粒子。

saes凈化器AT 2 nm 凈化器一體式凈化過濾器為腐蝕性溶劑提供凈化，具有的顆粒保留和金屬去除效率。

2 nm 截留率 PTFE 膜針對腐蝕性化學應用進行了優(yōu)化，的金屬去除層，大程度發(fā)揮金屬去除能力，長時間維持凈化性能，一體化設備可高效去除顆粒和金屬，減少占地面積

全氟聚合物材料可實現(xiàn)凈化UCM5P優(yōu)化清潔方式，安裝后可快速啟動，靈活的設備組合包括墨盒以及小型和大型一次性格式。

saes凈化器LS2 溶劑凈化器大限度地提高光化學制造中使用的各種光化學溶劑和原材料的金屬去除效率。新功能可使某些化學品的金屬去除率超過 99%清潔度的提高創(chuàng)造了清潔的基質(zhì)，從而縮短了過濾器的調(diào)節(jié)時間優(yōu)化的形態(tài)延長了過濾器的使用壽命，應用證明在常用的光化學溶劑中有效。

saes凈化器液體過濾器外殼具有多種性能和操作員安全優(yōu)勢。聚合物外殼或帶有 PTFE 襯里的外殼通常用于清潔度要求較高的應用以及對金屬滲入工藝材料更敏感的應用。不銹鋼外殼通常用于高壓、高溫應用?？刂乒に嚵髦械奈廴疚锸翘岣哌\營效率和推動技術進步的重要方法。我們提供各種膜和介質(zhì)，saes凈化器每個制造環(huán)境的化學兼容性和工藝條件。這些過濾器為 5 nm 及以下節(jié)點而設計，對小污染物的保留進行了優(yōu)化，并降低了晶圓上的缺陷率，同時提供過濾性能。UPE 膜可高效去除細小污染物，降低晶圓缺陷的可能性，優(yōu)化的流速可實現(xiàn)對小污染物的高保留，而不會影響生產(chǎn)率；saes凈化器采用我們新的 UPE 清潔工藝過濾工藝清潔度要求包括 10 英寸和 20 英寸濾芯以及一次配置達到您的應用需求。